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 工業(yè)純水設(shè)備是用于工業(yè)生產(chǎn)用水的純水制取裝置。工業(yè)純水設(shè)備可以用于：飲用水、瓶裝水、食品工業(yè)用水、半導(dǎo)體工業(yè)、精細(xì)化工、光學(xué)工業(yè)用水、電鍍用水、醫(yī)藥用水、透析醫(yī)療用水、電解器生產(chǎn)用水、電容器生產(chǎn)用水、打印機墨水用去離子水等代替各類蒸餾水及超純水供水等。

 水在電子工業(yè)尤其是電子元器件生產(chǎn)中的重要作用日益突出，純水水質(zhì)已成為影響電子元器件產(chǎn)品質(zhì)量、生產(chǎn)成品合格率及生產(chǎn)成本的重要因素之一，水質(zhì)要求也越來越高。在電子元器件生產(chǎn)中，高純水主要用作清洗用水及用來配制各種溶液、漿料，不同的電子元器件生產(chǎn)中純水的用途不同，因此對水質(zhì)的要求也不同。

工業(yè)純水設(shè)備的工藝：

預(yù)處理系統(tǒng)-反滲透系統(tǒng)-中間水箱-混合床-純水箱-用水對象 (≥15MΩ.CM)

電鍍純水設(shè)備：預(yù)處理-一級反滲透-中間水箱-加藥機(PH調(diào)節(jié)-二級反滲透-純水箱-純水泵-紫外線殺菌器-精密過濾器-EDI裝置-超純水箱-用水對象(≥15MΩ.CM)

化工純水設(shè)備：原水泵-砂濾器-碳濾器-陽離子交換器-陰離子交換器(常見老工藝)

醫(yī)用純化水設(shè)備：預(yù)處理-一級反滲透)-中間水箱-加藥機(PH調(diào)節(jié)-二級反滲透-無菌水箱(加臭氧)-純水泵-紫外線殺菌器-精密過濾器-用水對象(全不銹鋼制作)

在電解電容器生產(chǎn)中，鋁箔及工作件的清洗需用純水，如水中含有氯離子，電容器就會漏電。在電子管生產(chǎn)中，電子管陰極涂敷碳酸鹽，如其中混入雜質(zhì)，就會影響電子的發(fā)射，進而影響電子管的放大性能及壽命，因此其配液要使用純水。在顯像管和陰極射線管生產(chǎn)中，其熒光屏內(nèi)壁用噴涂法或沉淀法附著一層熒光物質(zhì)，是鋅或其他金屬的硫化物組成的熒光粉顆粒并用硅酸鉀粘合而成，其配制需用純水，如純水中含銅在8ppb以上，就會引起發(fā)光變色;含鐵在50ppb以上就會使發(fā)光變色、變暗、閃光跳躍;含有機物膠體、微粒、細(xì)菌等，就會降低熒光層強度及其與玻殼的粘附力，并會造成氣泡、條跡、漏光點等廢次品。在黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)的12個工序中，玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗等5個工序需使用純水，每生產(chǎn)一個顯像管需用純水80kg。液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液，如純水中存在著金屬離子、微生物、微粒等雜質(zhì)，就會使液晶顯示電路發(fā)生故障，影響液晶屏質(zhì)量，導(dǎo)致廢、次品。與傳統(tǒng)的水處理技術(shù)相比，膜技術(shù)具有工藝簡單、操作方便、易于自動控制、能耗小、無污染、去除雜質(zhì)效率高、運行成本低等優(yōu)點，特別是幾種膜技術(shù)的配合使用，再輔之以其他水處理工藝，如石英砂過濾、活性炭吸附、脫氣、離子交換、UV殺菌等，為去除水中的各種雜質(zhì)，滿足日益發(fā)展的電子工業(yè)對高純水的需要，提供了有效而可靠的手段，而且也只有應(yīng)用了多種膜技術(shù)，才能生產(chǎn)出合格、穩(wěn)定的高純水，才能生產(chǎn)出大規(guī)模、超大規(guī)模、甚大規(guī)模集成電路(LSI、VLSI、ULSI)，從而使計算機、雷達(dá)、通訊、自動控制等現(xiàn)代電子工業(yè)的發(fā)展和應(yīng)用得以實現(xiàn)。值得一提的是：當(dāng)原水的含鹽量大于400mg/L時，純水制造的除鹽工序采用RO-離子交換工藝后，比早先單用離子交換可節(jié)約酸、堿約90%左右，使離子交換柱的周期產(chǎn)水量提高10倍左右，事實證明，可以降低純水制造的運行費用和制水成本，可以減少工人的勞動強度，可以減少對環(huán)境的污染，并可使純水水質(zhì)得到提高并長期穩(wěn)定。據(jù)統(tǒng)計，在我國電子工業(yè)引進的純水制造系統(tǒng)中，有RO的約占系統(tǒng)總數(shù)的90%，有UF的約占20%，有MF的幾乎為100%，而ED在我國國產(chǎn)的純水系統(tǒng)特別是早期投產(chǎn)的純水系統(tǒng)，以及為數(shù)眾多的對純水水質(zhì)要求不高的一般電子元器件(如電阻、電容、黑白顯像管、電子管等)制造廠的純水系統(tǒng)中占有相當(dāng)?shù)谋壤?/span>

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