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用兩級(jí)反滲透制取
電子工業(yè)超純水(水中導(dǎo)電介質(zhì)、膠體物質(zhì)、無(wú)機(jī)物等全部去除的水)處理(經(jīng)由過(guò)程物化方法往除水中一些物質(zhì)的過(guò)程)設(shè)備
采用兩級(jí)反滲透主機(jī)加EDI純水系統(tǒng)(電阻率請(qǐng)求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的超純水)(電往離子(又稱(chēng)填充床電滲析EDI純水系統(tǒng)(電阻率請(qǐng)求
在1-18.2MΩ.cm(25℃)的超純水)/CDI純水設(shè)備(實(shí)用于制備電阻率請(qǐng)求很高的純水系統(tǒng)))(Electrodeionization)的
簡(jiǎn)稱(chēng))
制取電子工業(yè)超純水(水中導(dǎo)電介質(zhì)、膠體物質(zhì)、無(wú)機(jī)物等簡(jiǎn)直全部往除的水)處理(經(jīng)由過(guò)程物化方法往除水中一些物質(zhì)的過(guò)程)設(shè)備
制備電子工業(yè)用超純水(水中導(dǎo)電介質(zhì)、膠體物質(zhì)、無(wú)機(jī)物等簡(jiǎn)直全部往除的水)的工藝流程
電子行業(yè)制備超水的工藝大致分為以下幾種:
1、采用反滲透水處理(經(jīng)由過(guò)程物化方法往除水中一些物質(zhì)的過(guò)程)設(shè)備與電往離子(又稱(chēng)填充床電滲析EDI純水系統(tǒng)(電阻率請(qǐng)求在
1-18.2MΩ.cm(25℃)的超純水)/CDI純水設(shè)備(實(shí)用于制備電阻率請(qǐng)求很高的純水系統(tǒng)))(EDI純水系統(tǒng)(電阻率請(qǐng)求在
1-18.2MΩ.cm(25℃)的超純水)(電往離子(又稱(chēng)填充床電滲析EDI純水系統(tǒng)(電阻率請(qǐng)求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的超純
水)/CDI純水設(shè)備(實(shí)用于制備電阻率很高的純水系統(tǒng)))(Electrodeionization)的簡(jiǎn)稱(chēng)))設(shè)備停止搭配的的方法,這是一種制取超純水(水中導(dǎo)電介質(zhì)、膠體物質(zhì)、無(wú)機(jī)物等簡(jiǎn)直全部往除的水)的最新工藝,也是一種環(huán)保,經(jīng)濟(jì),的超純水(水中導(dǎo)電介質(zhì)、膠體物質(zhì)、無(wú)機(jī)物等
簡(jiǎn)直全部往除的水)制備工藝,其基礎(chǔ)工藝流程為:
原水→砂炭過(guò)濾器(過(guò)濾雜質(zhì),懸浮物質(zhì)及去除余氯及異色異味的一種過(guò)濾裝置)→精密過(guò)濾器(或稱(chēng) 保安過(guò)濾器)(截留砂碳過(guò)濾后的一些顆粒的一種過(guò)濾裝置)→反滲透(借助于半透過(guò)膜的膜分別技巧)(經(jīng)由過(guò)程反滲透膜(利用反滲透事理停止分此外液體分別 膜)法來(lái)制取純水的裝置)→電往離子(又稱(chēng)填充床電滲析EDI純水系統(tǒng)(電阻率請(qǐng)求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的超純水)/CDI純水設(shè)備(實(shí)用 于制備電阻率請(qǐng)求很高的純水系統(tǒng)))(EDI純水系統(tǒng)(電阻率請(qǐng)求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的超純水)(電往離子(又稱(chēng)填充床電滲析EDI純水 系統(tǒng)(電阻率請(qǐng)求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的超純水)/CDI純水設(shè)備(實(shí)用于制備電阻率請(qǐng)求很高的純水系統(tǒng))) (Electrodeionization)的簡(jiǎn)稱(chēng)))→純水箱→純水泵→后置精密過(guò)濾器(或稱(chēng)保安過(guò)濾器)(截留0.22U以下的顆粒)→用水點(diǎn)
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